химическое осаждение из паровой фазы
- химическое осаждение из паровой фазы
Chemical Vapor Deposition
(CVD)
Химическое осаждение из паровой фазы
Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.
Англо-русский словарь по нанотехнологиям.
В.В.Арсланов.
2009.
Смотреть что такое "химическое осаждение из паровой фазы" в других словарях:
химическое осаждение из паровой фазы — Процесс в газовой среде, при котором осаждаются изолирующие или металлические пленки на подложку при повышенной температуре. Для ускорения химической реакции часто используется пониженное давление. [http://www.cscleansystems.com/glossary.html]… … Справочник технического переводчика
Химическое осаждение из паровой фазы — 1. Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) процесс нанесения внешнего покрытия или покрытия с модификацией поверхности подложки, когда металл, сплав, композиционный материал, диэлектрик или керамика осаждается на нагретую подложку.… … Официальная терминология
химическое осаждение из паровой фазы — Chemical Vapor Deposition (CVD) Химическое осаждение из паровой фазы Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа носителя, такого как азот. Например,… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
химическое осаждение из паровой фазы — cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition chimique en phase vapeur,… … Radioelektronikos terminų žodynas
химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений — Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором используются металлоорганические соединения, термически разлагающиеся при температурах более низких, чем другие металлосодержащие соединения; метод часто используется при эпитаксиальном… … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении — Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при атмосферном давлении; результатом обычно бывает низкое качество пленки и низкая конформность по сравнению с аналогичным процессом при низком давлении (LPCVD).… … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении — Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении [http://www.cscleansystems.com/glossary.html] Тематики полупроводниковые приборы EN LPCVDLow Pressure Chemical Vapor Deposition … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении — — [А.С.Гольдберг. Англо русский энергетический словарь. 2006 г.] Тематики энергетика в целом EN low pressure chemical vapor depositionLPCVD … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы с плазмой высокой плотности — — [http://www.cscleansystems.com/glossary.html] Тематики полупроводниковые приборы EN HDPCVD … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении — cheminis garinis nusodinimas atmosferos slėgyje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. atmospheric pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei atmosphärischem Druck, f rus. химическое… … Radioelektronikos terminų žodynas
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении — cheminis garinis nusodinimas mažesniame slėgyje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reduced pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei reduziertem Druck, f rus. химическое осаждение из… … Radioelektronikos terminų žodynas
